ICC訊 9 月 15 日消息 中國科學院院士、復旦大學芯片與系統(tǒng)前沿技術研究院院長、教授劉明出席第二屆中國 (上海) 自貿(mào)區(qū)臨港新片區(qū)半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展高峰論壇并發(fā)表講話。
據(jù)了解,在集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展中,尺寸微縮是一個最重要的方向,它曾經(jīng)為集成電路性能的提升帶來了非常大的紅利。在集成電路發(fā)展的黃金期,芯片單靠尺寸微縮就可以將其算力每年增加 52%,這也推動了計算機的高速發(fā)展。
但現(xiàn)在劉明指出,這一領域的紅利空間已經(jīng)在逐步縮小?,F(xiàn)階段單純依靠尺寸微縮只能帶來 3% 左右的性能提升 。在很多情況下,處理芯片性能的提升都是依靠架構并行處理來實現(xiàn)的。
她認為,目前如果微縮道路走不下去的話,先進封裝其實是一條可以選擇的道路。“如果我們用做硅制造技術取代傳統(tǒng)的封裝,可以達到性能互聯(lián)指數(shù)的提升?!?
“目前,基于先進封裝集成芯片已經(jīng)成為高性能芯片的首選。”劉明表示,在同等工藝節(jié)點下,如果采用先進封裝技術來進行集成芯片的集成,能夠實現(xiàn) 15% 左右的性能提升。
她認為,先進封裝是當下首選的技術途徑,因此先進工藝對于我們國家來說有所困難,畢竟無論是通過自研還是進口都無法在短期內(nèi)獲得可以用來做產(chǎn)品的 EUV 光刻機,所以基于先進封裝集成芯片應該是擺脫限制、發(fā)展自主高端芯片的必由之路。
新聞來源:IT之家