OFC2025：上海交大研究人員將展示高速節(jié)能電光開關

  ICC訊  據(jù)OFC官網(wǎng)報道，研究人員開發(fā)出一種高速電光開關，具有節(jié)能、低串擾和寬帶寬工作的特點。該開關采用可擴展、適合芯片制造的工藝制成，可通過改進信號路由和切換來提升光網(wǎng)絡和數(shù)據(jù)中心的數(shù)據(jù)容量。

  中國上海交通大學的JinweiSu將在2025年3月30日至4月3日于舊金山莫斯康中心舉行的全球光通信與網(wǎng)絡頂級盛會——OFC會議上展示這一研究成果。

  隨著人工智能和云計算的快速發(fā)展，對高容量數(shù)據(jù)交換的需求持續(xù)增長。光交換憑借其寬帶寬和低延遲，正成為應對這一挑戰(zhàn)的最有前景的解決方案之一。為了實現(xiàn)納秒級的光交換，研究人員通過微轉(zhuǎn)移印刷將預蝕刻的薄膜鈮酸鋰（TFLN）集成到氮化硅上，制造了一種2×2級聯(lián)電光開關。

  該2×2級聯(lián)電光開關由四個1×2馬赫-曾德爾干涉儀結(jié)構(gòu)組成，這些結(jié)構(gòu)由氮化硅波導形成，并通過微轉(zhuǎn)移印刷將TFLN片集成到干涉儀臂上，形成混合相移器。這一設計充分利用了TFLN的優(yōu)異調(diào)制能力和氮化硅的卓越無源特性，確保了光開關的最佳性能。

  測試結(jié)果顯示，該開關的3-dB帶寬超過100納米，在1550納米波長下的插入損耗約為1.3dB，串擾低于-45dB。此外，TFLN實現(xiàn)了高速切換，響應時間小于3納秒，同時功耗極低。

  Su表示：“基于我們的研究，下一步我們將通過優(yōu)化耦合器設計進一步降低插入損耗，并確保后端與商用超低損耗氮化硅平臺的兼容性。此外，我們計劃開發(fā)基于大面積片的批量微轉(zhuǎn)移印刷技術，以在單一工藝中集成多個元件。這些改進將使我們的開關設計朝著下一代光通信系統(tǒng)中的實際商業(yè)應用邁進。”

  在舊金山舉行的為期五天的技術會議期間，OFC將展示650多篇高影響力的同行評審科學報告，包括這一研究成果。

  關于OFC

  2025年光纖通信會議與展覽（OFC）是光通信和網(wǎng)絡專業(yè)人士的頂級會議和展覽。50年來，OFC吸引了來自全球各地的與會者，他們在此交流、學習、建立聯(lián)系并推動業(yè)務發(fā)展。OFC包括動態(tài)的商業(yè)議程、全球公司的展覽以及高影響力的同行評審研究，展示塑造光網(wǎng)絡和通信行業(yè)的趨勢。OFC由IEEE通信學會（IEEE/ComSoc）和IEEE光子學會共同贊助，并由Optica共同贊助和管理。

  原文：https://www.ofcconference.org/en-us/home/news-and-press/press-releases/2025/researchers-to-showcase-high-speed-energy-efficien/