臺(tái)積電：2nm N2 工藝預(yù)計(jì) 2025 年量產(chǎn)，N3 家族將成另一大“搖錢(qián)樹(shù)”

  ICC訊  5 月 5 日消息，臺(tái)積電今日在其提交給股東的年度報(bào)告中，分享了有關(guān)其下一代 2nm 半導(dǎo)體制造工藝的詳細(xì)信息。

  臺(tái)積電董事長(zhǎng)劉德音、總裁魏哲家在致股東的營(yíng)業(yè)報(bào)告書(shū)中回顧過(guò)去臺(tái)積電過(guò)去一年發(fā)展，并提及臺(tái)積電技術(shù)發(fā)展，正為預(yù)計(jì)于 2025 年開(kāi)始量產(chǎn)的 2nm 技術(shù)(N2)做準(zhǔn)備，該制程技術(shù)將在新竹和臺(tái)中科學(xué)園區(qū)生產(chǎn)。

  技術(shù)發(fā)展方面，臺(tái)積電致股東營(yíng)業(yè)報(bào)告書(shū)說(shuō)，該公司的 2nm 技術(shù)將采用納米片(Nanosheet)電晶體結(jié)構(gòu)，并提供全制程效能和功耗效率的效益。相較于 N3E，N2 在相同功耗下速度增快 10%-15%，或在相同速度下功耗降低 25%-30%，以滿(mǎn)足日益增加的節(jié)能運(yùn)算需求。

  臺(tái)積電還稱(chēng)，N2 技術(shù)的研發(fā)按照計(jì)劃進(jìn)行中，預(yù)計(jì)于 2024 年試產(chǎn)，并于 2025 年量產(chǎn)。

  報(bào)告書(shū)還稱(chēng)，臺(tái)積電 2022 年提升研發(fā)費(fèi)用至 54.7 億美元(IT之家備注：當(dāng)前約 377.98 億元人民幣)，5nm 家族技術(shù)已邁入量產(chǎn)的第三年，為臺(tái)積公司營(yíng)收貢獻(xiàn) 26%。

  N4 工藝已于 2022 年開(kāi)始量產(chǎn)。臺(tái)積電還推出了 N4P 和 N4X 工藝，N4P 研發(fā)進(jìn)展順利，預(yù)計(jì)于 2023 年量產(chǎn);N4X 是臺(tái)積電第一個(gè)專(zhuān)注于高效能運(yùn)算(HPC)、高工作負(fù)載的技術(shù)，預(yù)計(jì)于 2023 年進(jìn)行客戶(hù)產(chǎn)品設(shè)計(jì)定案。

  繼 N3 工藝于 2022 年進(jìn)入量產(chǎn)，具備更好的性能、功耗和良率的 N3E 預(yù)計(jì)于 2023 年下半年量產(chǎn)。臺(tái)積電表示，N3 和 N3E 客戶(hù)參與度非常高，量產(chǎn)第一年和第二年的產(chǎn)品設(shè)計(jì)定案數(shù)量將是 N5 的兩倍以上，并預(yù)期 N3 家族將成為臺(tái)積電另一個(gè)大規(guī)模且有長(zhǎng)期需求的制程技術(shù)。