研發(fā)超構(gòu)表面光學(xué)芯片，山河光電獲數(shù)千萬元Pre-A輪投資

  據(jù)麥姆斯咨詢報道，近日，超構(gòu)表面光子芯片研發(fā)廠商山河光電宣布完成數(shù)千萬元Pre-A輪融資，本輪融資由舜宇產(chǎn)業(yè)基金和經(jīng)緯創(chuàng)投聯(lián)合領(lǐng)投，老股東中科創(chuàng)星持續(xù)跟投。融資資金將用于產(chǎn)品研發(fā)、團隊擴充以及小規(guī)模量產(chǎn)。

  近年來，超構(gòu)表面(metasurface)與超構(gòu)透鏡(metalens)的研究成為光學(xué)前沿技術(shù)熱點，也是光學(xué)和光子學(xué)領(lǐng)域發(fā)展最快、最具顛覆性的新技術(shù)。

  超構(gòu)表面是由大量亞波長單元在二維平面上設(shè)計排布而成的人工結(jié)構(gòu)陣列，能夠?qū)﹄姶挪ㄟM行靈活調(diào)控。超構(gòu)透鏡是具有透鏡功能的超構(gòu)表面，其體積小、重量輕、易于集成，可實現(xiàn)對入射光振幅、相位、偏振等參量的精確控制，在手機/車載攝像模組、VR/AR、全息顯示、醫(yī)療傳感與成像等方面有潛在重要應(yīng)用。

  山河光電成立于2020年底，致力于光的超級感知、光的大容量傳輸、微型顯示以及光計算等方向的超構(gòu)表面光子芯片產(chǎn)品研發(fā)與制造。

  據(jù)山河光電介紹，光學(xué)超構(gòu)表面是使用半導(dǎo)體工藝在晶圓上批量制備的微米、亞微米級厚度平面器件，可實現(xiàn)功能集成化(多種光學(xué)功能集成在一個光子芯片上)并可進行納米級光波波前的編碼和調(diào)控，因此也被稱為超構(gòu)表面光子芯片或平面光子芯片;可采用無機材料制造，使其具備傳統(tǒng)玻璃透鏡的環(huán)境與溫度穩(wěn)定性，適用于車輛、航空航天、水下等多種復(fù)雜環(huán)境;可克服傳統(tǒng)光學(xué)透鏡厚重、功能單一、模組工藝復(fù)雜、量產(chǎn)成本高的缺點;這些特點使得超構(gòu)表面光子芯片被認為是光學(xué)領(lǐng)域數(shù)百年來最重要的一次變革，其不僅可以革新傳統(tǒng)市場，也將創(chuàng)造具有廣闊前景的新市場。

  山河光電結(jié)合現(xiàn)代半導(dǎo)體制造工藝與光子學(xué)研究的最新進展，獨立設(shè)計并使用先進半導(dǎo)體技術(shù)在晶圓上批量制備多種功能集成化的超構(gòu)表面光子芯片器件及模組。公司擁有多項創(chuàng)新專利，相關(guān)產(chǎn)品在消費電子、汽車電子、無人機、安防監(jiān)控、自動駕駛、通信、航空航天及國防軍工等眾多領(lǐng)域具有廣闊的市場前景。山河光電現(xiàn)已完成多款超構(gòu)表面光子芯片產(chǎn)品的樣品制作和模組封裝，預(yù)期今年可實現(xiàn)小規(guī)模量產(chǎn)。

  技術(shù)團隊方面，山河光電匯聚了海內(nèi)外知名高校、科研院所的博士和多名十余年半導(dǎo)體工藝與晶圓級光模組封測工作經(jīng)驗的產(chǎn)業(yè)專家，并與國內(nèi)外多家高校、科研院所建立了合作關(guān)系。

  值得一提的是，山河光電CEO是美國著名光學(xué)中心羅切斯特大學(xué)的光學(xué)博士和SPIE高級會員，并被認定為國家海外高層次留學(xué)人才，深耕光學(xué)和半導(dǎo)體領(lǐng)域多年，在超構(gòu)表面光子芯片研發(fā)和量產(chǎn)上具備更加全面的視角。歸國之前曾在世界兩大半導(dǎo)體研發(fā)中心之一的IBM研發(fā)聯(lián)盟工作近十年，主持了美國第一臺EUV光刻原型驗證機Alpha demo tool以及后續(xù)EUV機型NXE: 3300的工藝驗證工作，在世界上首次實現(xiàn)了EUV光刻工藝良率，直接參與了14nm、10nm、7nm、5nm和3nm節(jié)點的研發(fā)工作，推動了EUV光刻技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化。其已發(fā)表26篇國際專業(yè)期刊文章和幾十次國際會議邀請報告，授權(quán)發(fā)明專利30 余項，其中美國專利32項。

  市場前景方面，美國知名科技研究機構(gòu)Lux Research預(yù)計未來的光學(xué)超構(gòu)表面市場有望超過500億美元，超構(gòu)表面光子芯片作為前沿技術(shù)正走向落地，市場將迎來爆發(fā)。