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銘普光磁新增一項發(fā)明專利 400G光模塊已小批量供貨

摘要:銘普光磁新增一項光模塊領域的發(fā)明專利證書,該發(fā)明公開了一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設備及存儲介質,有助于提升公司核心競爭力。同時,銘普光磁400G光模塊產品已有多家客戶送樣,部分客戶已有小批量供貨。


 ICC訊  (編輯:Nicole) 光器件制造商東莞銘普光磁股份有限公司(簡稱:銘普光磁)發(fā)布公告稱:公司近日取得一項由國家知識產權局頒發(fā)的“一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設備及存儲介質”發(fā)明專利證書(專利號:ZL 2018 1 1603013.2,專利類型:發(fā)明專利)。

  該發(fā)明公開了一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設備及存儲介質,包括:將光模塊放置在高溫環(huán)境下,當 MCU 溫度指針達到目標工作溫度時,調節(jié)激光器核心溫度值、偏壓電流值和 VEA 值,使光模塊的光功率、消光比、通道代價滿足目標值;以光模塊中 MCU 溫度指針為索引,根據(jù)服務器上預先存儲的數(shù)據(jù)庫中激光器核心溫度值、VEA 值與調節(jié)后的激光器核心溫度值、VEA 值的對應關系,動態(tài)更新本地數(shù)據(jù)庫中激光器核心溫度值、VEA 值;在常溫和低溫下分別測試光模塊的光功率、消光比和通道代價,若性能正常,則完成參數(shù)配置。

  本申請通過上述步驟將帶 EML 激光器的光模塊在高溫調試和常溫低溫測試,即能制作成品率高和合格率高的產品。

  銘普光磁表示獲得發(fā)明專利有利于充分發(fā)揮公司自主知識產權優(yōu)勢,完善知識產權保護體系,對公司開拓市場及推廣產品產生積極的影響,形成持續(xù)創(chuàng)新機制,提升公司核心競爭力。

  近日,銘普光磁在接待東北證券調研時表示:公司400G光模塊產品應用于數(shù)據(jù)中心市場,目前已有多家客戶送樣,部分客戶已有小批量供貨。

  對于一些新的領域,如無人駕駛、商業(yè)衛(wèi)星,有跟部分車企進行合作,部分料號已有小批量交貨,但是否用于無人駕駛公司不是很清楚,也暫未參與商業(yè)衛(wèi)星項目。

  關于銘普光磁

  東莞銘普光磁股份有限公司光電事業(yè)部成立于2009年5月,擁有一支高效的管理團隊以及具備豐富經(jīng)驗的研發(fā)和工藝開發(fā)團隊。在秉承始終為客戶提供高品質、低成本的解決方案的理念下,光電事業(yè)部在光電器件和模塊的研發(fā)、生產制造等方面取得了長足的進步并積累了豐富的經(jīng)驗。具有從TO,到光器件,至光模塊以及無源波分系統(tǒng)的垂直整合,以及大規(guī)模生產能力。同時也具備了COB和BOX等高端器件封裝設計和制造能力。


內容來自:訊石光通訊咨詢網(wǎng)
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關鍵字: 銘普光磁 光模塊 400G 專利
文章標題:銘普光磁新增一項發(fā)明專利 400G光模塊已小批量供貨
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