ICCSZ訊 11月12日,第二屆中國(guó)硅光產(chǎn)業(yè)論壇在武漢成功舉辦,本次會(huì)由國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心主辦,深圳市訊石信息咨詢有限公司承辦,“中國(guó)光谷”國(guó)際光電子博覽會(huì)協(xié)辦,以及由是德科技(中國(guó))有限公司和華夏幸?;鶚I(yè)股份有限公司支持。論壇匯聚十多位來(lái)自國(guó)內(nèi)外硅光工業(yè)界和學(xué)術(shù)界專家,共同探討硅光技術(shù)應(yīng)用、硅光材料創(chuàng)新和硅光市場(chǎng)前景。
國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心副董事長(zhǎng) 毛浩
在論壇上,國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心副董事長(zhǎng)毛浩發(fā)表開(kāi)幕致辭,他表示硅光論壇將產(chǎn)業(yè)鏈匯聚一起,主要是探討硅光技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展。因?yàn)榻?jīng)過(guò)充分的調(diào)查與實(shí)踐,硅光技術(shù)被認(rèn)為是行業(yè)最終需要突破的產(chǎn)業(yè)共性瓶頸。隨著5G商用,5G承載場(chǎng)景對(duì)硅光技術(shù)的需求更加明顯,在已經(jīng)實(shí)現(xiàn)規(guī)模商用的數(shù)據(jù)中心市場(chǎng)中,硅光產(chǎn)品也在不斷向更高速階段沖擊,例如阿里巴巴推出400G ZR硅光模塊。國(guó)際上的硅光并購(gòu)案例也在快速推動(dòng)硅光資源的整合,以及國(guó)外先進(jìn)硅光平臺(tái)發(fā)展引起國(guó)內(nèi)的思考??梢哉f(shuō),硅光產(chǎn)業(yè)日新月異,而我們產(chǎn)業(yè)鏈還需要加速硅光產(chǎn)業(yè)商用化,這是國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心成立的意義,目的是匯聚社會(huì)資源,推動(dòng)人才、技術(shù)和產(chǎn)品的商用化,不與上下游競(jìng)爭(zhēng),卻發(fā)揮產(chǎn)業(yè)資源最大優(yōu)勢(shì),實(shí)現(xiàn)硅光產(chǎn)業(yè)瓶頸的突破。最后感謝各方單位對(duì)本次論壇的支持。
國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心專家 傅焰峰
國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心專家傅焰峰博士發(fā)表《國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心建設(shè)與發(fā)展》的主題報(bào)告。傅博士表示,創(chuàng)新中心擬重點(diǎn)建設(shè)芯片工藝開(kāi)發(fā)和中實(shí)驗(yàn)平臺(tái),疏通產(chǎn)業(yè)鏈條和技術(shù)管道。硅光平臺(tái)擁有國(guó)內(nèi)首套自動(dòng)化8/12寸硅光晶圓篩檢系統(tǒng),效率可達(dá)3000片/年,目前開(kāi)始對(duì)外服務(wù)。
在成果方面,創(chuàng)新中心在國(guó)際上6個(gè)主流硅光晶圓廠完成了>20次流片,建立自主IP庫(kù)。實(shí)現(xiàn)>60個(gè)光電元件的單片集成,包括調(diào)制器、探測(cè)器、光學(xué)復(fù)用 器、相位控制器等,芯片集成度達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。同時(shí),國(guó)內(nèi)最早實(shí)現(xiàn)50Gb/s硅光芯片 與CMOS驅(qū)動(dòng)器的高速集成。研制出國(guó)內(nèi)首款1×100G硅光調(diào)制器芯片和模塊樣機(jī)。
創(chuàng)新中心正在研發(fā)25G波長(zhǎng)可調(diào)光芯片,與光迅聯(lián)合研制25G可調(diào)諧光發(fā)射組件,實(shí)現(xiàn)硅基調(diào)制器與III-V SG-DBR可調(diào)激光器芯片混合集成,樣品2019年Q3公布。還有預(yù)研超高速率光子芯片,其單通道調(diào)制速率達(dá)120Gbaud NRZ,220Gb/s PAM4,是全球最快光芯片之一,為未來(lái)十年提供技術(shù)儲(chǔ)備。
中國(guó)信息通信研究院技術(shù)與標(biāo)準(zhǔn)研究所寬帶網(wǎng)絡(luò)研究部主任 趙文玉
中國(guó)信息通信研究院技術(shù)與標(biāo)準(zhǔn)研究所寬帶網(wǎng)絡(luò)研究部主任趙文玉博士講述《硅光技術(shù)及應(yīng)用探討》:當(dāng)前多方需求推動(dòng)硅光快速發(fā)展,目前光器件市場(chǎng)仍以III-V族材料為主,硅光集成的市場(chǎng)份額,在2014年開(kāi)始啟動(dòng)(4%),未來(lái)會(huì)持續(xù)上升,預(yù)計(jì) 2023年將達(dá)到20%。硅光封裝方面,非氣密封裝趨勢(shì)明顯,貼裝光源應(yīng)用最廣。因?yàn)閺某杀窘嵌瓤紤],光芯片降成本的空間越來(lái)越小,推動(dòng)封裝技 術(shù)從比較昂貴的氣密封裝走向低成本的非氣密封裝成為有效手 段。 從體積角度考慮,對(duì)于400G時(shí)代,通道數(shù)的翻倍使得體積控制成為必要。數(shù)據(jù)中心100G PSM4短距離和400G高速應(yīng)用優(yōu)勢(shì)非常明顯,數(shù)據(jù)中心結(jié)構(gòu)非常適合硅光技術(shù),在500米數(shù)據(jù)中心互聯(lián)的100G QSFP28 PSM4 光模塊產(chǎn)品市場(chǎng),硅光混合集成方案份額已達(dá)到近80%。
華為專家 謝耀輝
華為公司專家謝耀輝博士發(fā)表《客戶視角看光模塊與硅光產(chǎn)業(yè)》的主題報(bào)告,他表示光模塊的大帶寬高速互連能力,可以涵蓋數(shù)十米到上千公里的場(chǎng)景,因此具有很高的商業(yè)價(jià)值。光模塊應(yīng)該看作是一個(gè)子系統(tǒng),只有進(jìn)行單板器件級(jí)別的適 配與測(cè)試,才能保證光模塊 在設(shè)備上各項(xiàng)參數(shù)最優(yōu),長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。硅光模塊具有極簡(jiǎn)架構(gòu)、經(jīng)濟(jì)量產(chǎn)、高度集成、可插拔和光口標(biāo)準(zhǔn)帶來(lái)的互聯(lián)互通。硅光技術(shù)可行路徑,謝博士推薦異質(zhì)平臺(tái)的集成,要探索電組件與光組件的最佳集成,建設(shè)面向未來(lái)的基礎(chǔ)光電平臺(tái),這需要產(chǎn)業(yè)協(xié)同和持續(xù)投入。
硅光產(chǎn)業(yè)兩端是Foundry和客戶,這兩頭都聚焦在北美,處于領(lǐng)先狀態(tài)。盡管如此,硅光技術(shù)平臺(tái)依然具有挑戰(zhàn),尤其是光源集成、封裝插損、損耗等因素,而且傳統(tǒng)直調(diào)Vcsel和直調(diào)DML其實(shí)比硅光在同等場(chǎng)景中更有優(yōu)勢(shì),硅光未來(lái)還需要力爭(zhēng)實(shí)現(xiàn)“芯片出光”??傮w而言,硅光技術(shù)可有效滿足未來(lái)流量增長(zhǎng)的的訴求,但需要產(chǎn)業(yè)協(xié)同,在異質(zhì)集成方向大力發(fā)展。
烽火通信系統(tǒng)部產(chǎn)品經(jīng)理 曹權(quán)
烽火通信系統(tǒng)部產(chǎn)品經(jīng)理曹權(quán)博士發(fā)表《光傳輸系統(tǒng)中的硅光技術(shù)應(yīng)用需求》,曹博士表示相干光傳輸?shù)膯文K容量正在進(jìn)入400G/800G時(shí)代,其應(yīng)用不僅局限在長(zhǎng)途傳輸,會(huì)擴(kuò)展到DCI互聯(lián)應(yīng)用。然而,傳統(tǒng)的分立光器件已經(jīng)不能支持CFP2的可插拔演進(jìn)(小型化)。因此,他看好硅光子和InP的集成光子學(xué)技術(shù)是未來(lái)相干模塊的關(guān)鍵技術(shù)。
對(duì)于硅光子技術(shù)本身,由于其可利用CMOS大規(guī)模生產(chǎn),以及良好的可靠性預(yù)期,近年來(lái)得到了大家的普遍關(guān)注。但是在相干領(lǐng)域,硅光子技術(shù)需要重點(diǎn)解決高波特率、低損耗、超寬的波長(zhǎng)工作范圍以及低成本封裝,才能更好的發(fā)揮其優(yōu)勢(shì)。針對(duì)相干領(lǐng)域的硅光技術(shù)關(guān)鍵點(diǎn),曹博士認(rèn)為主要是硅光調(diào)制器與RF IC的共同設(shè)計(jì)和優(yōu)化、寬光譜工作和控制技術(shù)、以及低成本封裝技術(shù)。他最后強(qiáng)調(diào),一個(gè)穩(wěn)定和可靠的硅光fab是硅光產(chǎn)業(yè)一切的前提和基礎(chǔ),希望硅光子擁有一個(gè)更加良好和健康的產(chǎn)業(yè)鏈。
浙江大學(xué)求是特聘教授、國(guó)家杰出青年科學(xué)基金獲得者 戴道鋅
浙江大學(xué)求是特聘教授、國(guó)家杰出青年科學(xué)基金獲得者戴道鋅教授發(fā)表演講主題“New technologies & applications for silicon photonics”,他表示硅光依然面臨很多問(wèn)題,尤其是和磷化銦的競(jìng)爭(zhēng)。硅光技術(shù)如何做到更好,應(yīng)該從高性能和低成本入手,而所謂低成本應(yīng)該是指有價(jià)值的低成本,CMOS兼容性要真正帶來(lái)低成本效益,重點(diǎn)要關(guān)注晶圓尺寸、器件密度、以及工藝和設(shè)計(jì)雙管齊下。封裝也是硅光成本的重要影響因素。當(dāng)前市場(chǎng)上,硅光晶圓尺寸正從6寸向8或12寸,180/150mm向低于100mm發(fā)展,這給成品率帶來(lái)很重要的提升。同時(shí),沒(méi)有高性能的低成本是沒(méi)有意義的,而高性能要看重波導(dǎo)/交叉損耗、通道數(shù)和功耗或能效等,產(chǎn)業(yè)鏈需要新的技術(shù)來(lái)有效調(diào)控波導(dǎo)交叉損耗。
倫敦大學(xué)學(xué)院教授 陳思銘
倫敦大學(xué)學(xué)院陳思銘教授發(fā)表“Quantum Dot Laser in Silicon Photonics:Direct Epitaxy”主題報(bào)告,如今硅光的優(yōu)勢(shì)和缺點(diǎn)已經(jīng)被廣泛描述,但硅材料不適合用來(lái)做發(fā)射器,III-V材料擁有無(wú)可比擬的優(yōu)勢(shì)。他對(duì)比不同硅上集成技術(shù),直接外延(Direct Epitaxy)具有更高集成密度,兼容CMOS前端工藝,成本可以做到非常低。但也面臨線膨脹系數(shù)、晶格失配和極性或非極性曲面的挑戰(zhàn)。陳教授介紹了量子點(diǎn)技術(shù),其可以實(shí)現(xiàn)很好的硅上直接外延。去同樣量子阱相比,量子點(diǎn)優(yōu)勢(shì)是對(duì)缺陷不敏感。片上外延生長(zhǎng)III-V激光器已經(jīng)成為行業(yè)的共識(shí),但是片上外延生長(zhǎng)III-V材料遇到的挑戰(zhàn)依然需要行業(yè)共同討論克服。使用量子點(diǎn)激發(fā)片上外延生長(zhǎng)III-V材料具有獨(dú)一無(wú)二的優(yōu)勢(shì),為大規(guī)模的III-V/Si集成奠定基礎(chǔ)。在這方面,UCL實(shí)現(xiàn)了大規(guī)模硅上生長(zhǎng)1.3μm InAs量子點(diǎn)激光器。
中山大學(xué)教授 蔡鑫倫
中山大學(xué)蔡鑫倫教授講述《用于大容量通信系統(tǒng)的硅基光子集成器件》,他表示硅光技術(shù)是一次由光電子產(chǎn)業(yè)向微電子產(chǎn)業(yè)學(xué)習(xí)的機(jī)遇,是將設(shè)計(jì)和制造分開(kāi)的硅光新模式,但PIC的特征是集成不同器件材料的多樣性,而CMOS模塊恰恰消滅了多樣性,只能做Foundry提供的器件,這可能導(dǎo)致不同芯片公司的同質(zhì)化。因此,硅光新模式要持續(xù)發(fā)展需要不斷開(kāi)拓新市場(chǎng),而要適應(yīng)不多市場(chǎng)領(lǐng)域的需求,硅光技術(shù)需要做更多創(chuàng)新,異質(zhì)集成是很好的技術(shù)選擇。蔡教授介紹鈮酸鋰薄膜材料(LNOI),其電光特性具有超高速、低電壓、低損耗,結(jié)合硅光CMOS工藝,是硅光異質(zhì)集成新的理想方式。蔡教授團(tuán)隊(duì)利用熱光效應(yīng)在Si-LN做了MZ調(diào)制,實(shí)現(xiàn)理想的帶寬。硅光材料有多種新材料,他建議產(chǎn)業(yè)鏈要關(guān)注SiN材料,它是一種性能優(yōu)良的光子集成材料,真正的CMOS兼容。
俄勒岡州立大學(xué)教授 王小龍
俄勒岡州立大學(xué)王小龍教授發(fā)表“Beyond Silicon Photonics:the Route toward Hybrid Integration”,他提出透明導(dǎo)電氧化物(TCO)材料具有非常好的應(yīng)用前途,特別跟硅光結(jié)合的應(yīng)用前景非常好。未來(lái)應(yīng)對(duì)流量劇增中的需求,硅光成為大家關(guān)注的技術(shù)選擇。王教授表示調(diào)制器是硅光集成中非常關(guān)鍵的器件,并介紹透明導(dǎo)電氧化物材料(TCOs)作為調(diào)制器新型材料,TCO材料的制作工藝可以跟CMOS工藝兼容?;诨旌蟂i-TCO的微環(huán)形調(diào)制器,這種調(diào)制速率可達(dá)到1GHz,如果在優(yōu)化的金屬聯(lián)系設(shè)計(jì)上,新型調(diào)制器還有望實(shí)現(xiàn)高達(dá)44GHz速率?;诨旌蟃CO微型環(huán)陣列,王教授介紹其片上WDM系統(tǒng),這種系統(tǒng)可以自由實(shí)現(xiàn)熱調(diào)諧,并獲得極高帶寬密度和能效。
武漢大學(xué)教授 鄭國(guó)興
武漢大學(xué)鄭國(guó)興教授發(fā)表《硅基超表面材料在信息光學(xué)中的應(yīng)用研究》,他表示超表面材料是學(xué)術(shù)研究熱點(diǎn),先進(jìn)的制造技術(shù)是超表面應(yīng)用的關(guān)鍵,與傳統(tǒng)光學(xué)手段實(shí)現(xiàn)相位調(diào)控相比,納米磚超表面材料性能優(yōu)勢(shì)明顯。其效率方面,電介質(zhì)材料的納米磚理論效率可接近100%,金屬納米磚理論效率可接近90%。而波段方面,從可見(jiàn)光到紅外波段均可實(shí)現(xiàn)。在結(jié)構(gòu)方面,納米磚屬于純平面的超薄器件,具有體積小、重量輕、高度集成、裝校方便等突出優(yōu)勢(shì),應(yīng)用面向新概念、高性能、芯片級(jí)的光電子功能器件,例如硅光子芯片。超表面材料技術(shù)還可以精密且連續(xù)位相調(diào)制,具有超大衍射角度,更高效率、工藝簡(jiǎn)單,批量復(fù)制,同時(shí),硅基超材料與半導(dǎo)體工藝兼容。
光迅科技市場(chǎng)部經(jīng)理 張玓
光迅科技市場(chǎng)部經(jīng)理張玓博士發(fā)表主題為《下一代硅光收發(fā)器的技術(shù)挑戰(zhàn)和競(jìng)爭(zhēng)力分析》,隨著5G商用和數(shù)據(jù)中心400G切換,硅光在下一代光收發(fā)器市場(chǎng)將獲得更加明確的應(yīng)用需求,但硅光技術(shù)與傳統(tǒng)III-V族技術(shù)的競(jìng)爭(zhēng)會(huì)一直持續(xù)下去,傳統(tǒng)III-V族材料擁有更高性能的發(fā)光效率,在5G承載和數(shù)據(jù)中心架構(gòu)中,依然具有強(qiáng)大的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。不過(guò),硅光的優(yōu)勢(shì)是III-V族難以取代。總體而言,數(shù)據(jù)中心內(nèi)部和光互聯(lián)器件需求是持續(xù)上升的,硅光技術(shù)是一種可行的技術(shù),與其他技術(shù)共存。他還提到相干技術(shù)在800G時(shí)代甚至更高將會(huì)下層之?dāng)?shù)據(jù)中心內(nèi)部。
亨通洛克利首席技術(shù)家 陳奔
亨通洛克利首席技術(shù)家陳奔博士發(fā)表《硅光數(shù)通技術(shù)進(jìn)展和最近硅光研究趨勢(shì)》,他介紹了當(dāng)前行業(yè)知名硅光模塊商用公司的進(jìn)展,例如英特爾硅的硅光模塊采用混合集成光源,100G PSM4和100G CWDM4成功出貨,累計(jì)出貨超過(guò)100萬(wàn)只。被思科收購(gòu)的Luxtera采用光柵耦合方式和晶圓級(jí)封裝技術(shù)(EIC on PIC),產(chǎn)品以PSM4為主,已經(jīng)交付超過(guò)百萬(wàn)只硅光模塊。Acacia擁有高端相干產(chǎn)品,硅光以及DSP技術(shù),是長(zhǎng)距離硅光技術(shù)的代表。阿里巴巴最近宣布自己的400G DR4硅光方案,其光引擎基于薄硅工藝的硅光Tx/Rx芯片,驅(qū)動(dòng)和TIA芯片封裝在APE里面。
亨通洛克利方面,陳奔博士介紹公司成功解決了混合集成激光器,采用Flip Chipped gain chip Array、電吸收調(diào)制器、鍺硅探測(cè)器、V型槽光纖接口以及線性TIA/Driver等。他介紹了亨通洛克利在112G PAM4眼圖性能,以及硅光的研究趨勢(shì),尤其是OptpASIC,因?yàn)?A href="http://getprofitprime.com/site/CN/Search.aspx?page=1&keywords=%e7%a1%85%e5%85%89&column_id=ALL&station=%E5%85%A8%E9%83%A8" target="_blank">硅光并不專用于光模塊,OptoASIC將硅光陣列直接與核心集成電路接口,減少高頻信號(hào)在傳輸線上的功率損耗,實(shí)現(xiàn)低功耗。
光梓信息科技CTO 姜培
光梓信息科技CTO姜培博士發(fā)表《硅光用高速I(mǎi)C/光電集成》,他表示在4G向5G演進(jìn)中,PAM技術(shù)使電借口是25G NRZ,光接口是12.5GBaud PAM4,因此10G光芯片依然有應(yīng)用價(jià)值。在高速光模塊中,PAM4調(diào)制是不可或缺的部分,需要部署DSP,但DSP價(jià)格很貴,他介紹lite-DSP采用一半模擬一半數(shù)字和Bulk-CMOS工藝,可以成為實(shí)現(xiàn)PAM4技術(shù)的有效方案。商用化PAM4路線已經(jīng)比較清晰,與DSP和Analog相比,Lite-DSP擁有較好的性能,較好的功耗和最好的成本,其BULK CMOS工藝在中國(guó)擁有較好的供應(yīng)鏈體系。對(duì)于大多數(shù)PAM4應(yīng)用(直接探測(cè)或非相干),基于Bulk-CMOS的Lite-DSP將是最具吸引力的方案。
是德科技技術(shù)專家 朱振華
是德科技技術(shù)專家朱振華發(fā)表《硅光測(cè)試方案介紹》,他指出硅光子器件應(yīng)用前景廣闊,從通信的電信和數(shù)通到傳感領(lǐng)域的激光雷達(dá)和消費(fèi)電子等,需求的不斷上漲對(duì)硅光器件測(cè)試提出更高的要求。他認(rèn)為硅光器件的測(cè)試難點(diǎn)在于:光學(xué)耦合損耗,需要采用高功率可調(diào)諧光源或新型低損耗耦合技術(shù)解決;偏振對(duì)準(zhǔn)和偏振相關(guān)是難點(diǎn)之一,可以從Average IL/responsivity,PDL或首選偏振態(tài)下的響應(yīng)獲得結(jié)果。除此之外,探針影響也是硅光芯片的難題之一,基于LCA的On-Wafer頻域測(cè)試,可以通過(guò)deembedding消除RF探針影響。
聯(lián)合微電子中心硅基光電子總監(jiān) 馮俊波
聯(lián)合微電子中心有限責(zé)任公司硅基光電子總監(jiān)馮俊波博士發(fā)表《硅基光電子工藝》報(bào)告,他表示CUMEC能力和戰(zhàn)略規(guī)劃,硅光子方面,2020年將完成8英寸SOI生產(chǎn)線建設(shè),2022年完成12英寸SOI生產(chǎn)線建設(shè),2020年啟動(dòng)硅基量子點(diǎn)激光器研發(fā),預(yù)計(jì)2023年投產(chǎn)。馮博士對(duì)比了硅光子和CMOS,比較版圖設(shè)計(jì)、材料分布和不同靈敏度的差異。他還分享了硅光子芯片封裝技術(shù)的新進(jìn)展,例如高密度封裝(40μm)、低損耗端面封裝(~1dB)和高速封裝(30Gbps)等。
中科院微電子所研究員 李志華
中科院微電子所研究員李志華發(fā)表《硅光子技術(shù)服務(wù)平臺(tái)》報(bào)告,他表示中科院微電子所的核心產(chǎn)品是硅器件與集成、高頻高壓器件與集成、微電子儀器設(shè)備和光電技術(shù)研發(fā)。具備22-5nm關(guān)鍵工藝研發(fā),180nm CD量產(chǎn)技術(shù),CMOS和MEMS全流程以及硅基光子器件全流程能力。從歷史發(fā)展來(lái)看,微電子所在2015年成立硅光子平臺(tái)小組,2016年發(fā)布首版PDK,涵蓋硅光子平臺(tái)器件庫(kù)、設(shè)計(jì)規(guī)則和工藝規(guī)范,2017年實(shí)現(xiàn)PDK與商業(yè)軟件集成,2018年首次有源MPW試流片。他介紹微電子所硅光子平臺(tái)包括硅光子PDK、8英寸CMOS工藝線、工藝模塊以及仿真設(shè)計(jì)和光電測(cè)試。他最后還介紹了微電子所的光電封裝技術(shù),包括TSV Interposer、晶圓凸點(diǎn)技術(shù)、封裝設(shè)計(jì)與仿真,硅光-MEMS-封裝異質(zhì)異構(gòu)3D集成等。
Lumerical公司專家 王旭
Mentor公司專家 David Zhuang
隨后,Lumerical公司專家王旭博士介紹了《硅光仿真和設(shè)計(jì)技術(shù)》,Mentor公司專家David Zhuang介紹了《硅光自動(dòng)化繪版工具》。王旭博士認(rèn)為硅光將引導(dǎo)光子集成技術(shù)發(fā)展,而對(duì)于硅光發(fā)展來(lái)說(shuō),技術(shù)、應(yīng)用以及生態(tài)系統(tǒng)缺一不可。硅光在有必要的情況下,將不斷集成其他技術(shù)。
仿真設(shè)計(jì)是芯片設(shè)計(jì)的核心環(huán)節(jié),對(duì)芯片產(chǎn)品的性能和測(cè)試前提。硅光芯片采用CMOS工藝,如何在硅片上大規(guī)模集成有源器件和無(wú)源器件,需要以仿真設(shè)計(jì)來(lái)制定方案。而硅光的自動(dòng)化繪版對(duì)硅光設(shè)計(jì)效率有著顯著的提升,硅光設(shè)計(jì)工具是硅光模塊和硅光引擎設(shè)計(jì)工作的基本保障。隨著通信市場(chǎng)向更高速階段演進(jìn),硅光芯片需求不斷釋放,大規(guī)模自動(dòng)化的設(shè)計(jì)與驗(yàn)證是產(chǎn)業(yè)升級(jí)的關(guān)鍵。
硅光產(chǎn)業(yè)論壇話題討論:IDM或Fabless
論壇最后,多為專家共同組成了硅光產(chǎn)業(yè)鏈話題討論,話題為IDM或FABLESS,由國(guó)家信息光電子創(chuàng)新中心傅焰峰博士主持,騰訊數(shù)據(jù)中心系統(tǒng)架構(gòu)師孫敏博士,亨通洛克利首席科學(xué)家陳奔博士,仕佳光子專家張家順博士、Golight副總經(jīng)理林小龍、LaserX市場(chǎng)總監(jiān)胡天琦和Luceda公司曹如平博士六位專家擔(dān)任話題討論嘉賓,圍繞硅光產(chǎn)業(yè)鏈模式:IDM還是Fabless進(jìn)行了深入的探討。
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