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愛發(fā)科和美國JDSU聯(lián)合開發(fā)出低缺陷的光學(xué)薄膜濺鍍設(shè)備

摘要: 【日經(jīng)BP社報道】日本愛發(fā)科(ULVAC)和美國JDS Uniphase公司(JDSU)開發(fā)出了能夠高效生產(chǎn)缺陷僅為原來1/10的光學(xué)薄膜的濺鍍設(shè)備“ULDi


    【日經(jīng)BP社報道】日本愛發(fā)科(ULVAC)和美國JDS Uniphase公司(JDSU)開發(fā)出了能夠高效生產(chǎn)缺陷僅為原來1/10的光學(xué)薄膜的濺鍍設(shè)備“ULDiS-200UCP”。該設(shè)備采用JDSU的專利技術(shù)“Meta-mode”,由愛發(fā)科開發(fā)。愛發(fā)科將以歐美以外的亞洲為中心進行銷售。

 

為了以高畫質(zhì)顯示高清電視及數(shù)字電影等高精細(xì)映像,要求投影機和背投電視等光學(xué)系統(tǒng)元器件必須具備很高的精度。此次的設(shè)備不僅適用于投影燈的反射鏡片、全反射鏡片以及濾光片等表面光學(xué)薄膜以及防反光薄膜的形成,還可用于MEMS光學(xué)元件的反射面以及封裝玻璃表面的加工處理。有了該設(shè)備,過去依靠JDSU公司進行成膜的成品廠商將可自行加工。

 

此次開發(fā)的設(shè)備與2004年愛發(fā)科根據(jù)與JDSU簽訂的授權(quán)合同開發(fā)的“ULDiS-903CHL”相比,具有如下特點:(1)底板尺寸支持更大的面積,現(xiàn)有設(shè)備為對角長度75mm,而新設(shè)備則為直徑200mm;(2)薄膜缺陷數(shù)由現(xiàn)有設(shè)備的每平厘米數(shù)個減小至0.1個;(3)成膜率得到了提高?,F(xiàn)有設(shè)備使用硅時成膜率為0.6nm/秒,用鈮則為0.3nm/秒,而新設(shè)備均為1nm/秒。

 

為了形成Si氧化膜等光學(xué)薄膜,“Meta-mode”技術(shù)通過連續(xù)完成先進行成膜速度很快的金屬膜濺鍍再進行氧化的過程,具備很高的生產(chǎn)效率?,F(xiàn)有設(shè)備由于要在設(shè)備內(nèi)部轉(zhuǎn)動裝有底板的工作臺,因此無法減少污染導(dǎo)致的缺陷。而新設(shè)備不用移動底板即可進行成膜,因此可減少缺陷的產(chǎn)生。另外,作為現(xiàn)有設(shè)備來說,在膜與底板之間的界面上產(chǎn)生缺陷后還會影響到光學(xué)性能。而使用新設(shè)備,幾乎看不到這個界面。

 

該設(shè)備售價2億日元~22000萬日元,訂貨后57個月即可交貨?,F(xiàn)有設(shè)備由于能夠在更低的溫度下進行濺鍍處理,因此將面向塑料濺鍍等用途繼續(xù)銷售。(記者:大西 順雄)

 

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