ICC訊 硅光子市場正在蓬勃發(fā)展,復合年增長率超過40%,如果薄膜鈮酸鋰(TFLN)技術(shù)能夠達到成本和性能目標,其快速擴張只會進一步加速。
硅光子學廣泛的應用前景預示著巨大機遇
自1985年誕生以來,硅光子學已經(jīng)從早期的高約束波導發(fā)展成為一種多功能技術(shù),集成了基于CMOS材料的設計和封裝,在收發(fā)器市場上占據(jù)了主導地位。盡管現(xiàn)在已被廣泛應用,硅光子學仍在迅速發(fā)展中,并且應用范圍不斷擴大。在接下來的十年里,雖然行業(yè)可能會出現(xiàn)整合,但是廣泛的應用潛力將繼續(xù)推動增長。
在滿足數(shù)據(jù)中心需求方面,尤其是在人工智能(AI)和機器學習(ML)領域,這項技術(shù)的作用至關(guān)重要,因為傳統(tǒng)的處理器架構(gòu)面臨著物理限制。硅光子學支持的高速通信對于加快計算速度至關(guān)重要。帶寬需求的增長不僅推動了硅光子學的進步,也促進了薄膜鈮酸鋰技術(shù)的發(fā)展,從而增強了網(wǎng)絡中的數(shù)據(jù)容量。
光子集成電路,特別是絕緣體上硅(SOI)和絕緣體上鈮酸鋰(LNOI),為需要大規(guī)模可擴展性的應用提供了靈活平臺,特別是在數(shù)據(jù)中心領域,中國企業(yè)正嶄露頭角成為新的領導者。由于硅的穩(wěn)定性能,電信是另一個大批量應用領域。除此之外,光學LiDAR、三維集成、量子計算、光學陀螺儀乃至醫(yī)療光子學都具有巨大的潛力,盡管某些應用仍面臨技術(shù)和監(jiān)管挑戰(zhàn)。硅光子學向可見光譜領域的擴展可能在未來解鎖更多創(chuàng)新用途。
2023年,硅光子集成電路(晶圓片)市場價值為9500萬美元,預計到2029年將以45%的復合年增長率增長至超過8.63億美元。這一增長主要由用于增加光纖網(wǎng)絡容量的高數(shù)據(jù)速率可插拔模塊驅(qū)動。此外,隨著訓練數(shù)據(jù)集規(guī)模的迅速增長,預計未來的數(shù)據(jù)處理將需要借助光來實現(xiàn),即通過在機器學習服務器中采用光輸入/輸出技術(shù)來擴展機器學習模型。
集成技術(shù)平臺競速實現(xiàn)高速光通道
向更高通道速率邁進
預計到2026-2027年,單通道速率將過渡到200G,這一轉(zhuǎn)變是由下一代AI集群和云數(shù)據(jù)中心的需求所推動的。這種變化基于400G/通道激光器及其他組件的持續(xù)發(fā)展,這將為每端口以太網(wǎng)速度達到3.2T甚至更高的路徑鋪平道路。
具有競爭力的集成材料技術(shù)平臺
高速光通信的未來在于三大主要材料平臺:
絕緣體上硅(SOI):為了支持400G/通道,先進的電光(EO)調(diào)制器材料對于SOI來說至關(guān)重要,但這會增加復雜性和成本。將SOI與薄膜鈮酸鋰(TFLN)或鈦酸鋇(BTO)等材料結(jié)合,可以實現(xiàn)高帶寬,但成本較高,預計到2032-2033年左右才會具備經(jīng)濟可行性。SOI上的TFLN調(diào)制器可能是短期解決方案,不過存在鋰污染和集成良率方面的挑戰(zhàn)。一個廣泛的工業(yè)生態(tài)系統(tǒng)正在致力于提升基于SOI的硅光子技術(shù)。
絕緣體上鈮酸鋰(LNOI):LNOI的薄膜結(jié)構(gòu)提供了更好的模式限制和更低的驅(qū)動電壓,使其非常適合線性可插拔光學(LPO)、線性重定時光學(LRO)和相干lite光學等超高帶寬應用。盡管初期成本高且大規(guī)模生產(chǎn)有限可能是障礙,但TFLN是2027-2028年有望實現(xiàn)的3.2T可插拔模塊的關(guān)鍵材料。
磷化銦(InP):InP通過在芯片上集成諸如激光器和放大器等有源光子元件而表現(xiàn)出色,減少了組裝復雜性,盡管目前成本較高且生產(chǎn)受限。到2029年,InP可能成為SOI和LNOI的強勁競爭對手,尤其是在相干lite應用方面。Infinera、Lumentum、Smart Photonics、Effect Photonics和Bright Photonics等公司正在InP PIC技術(shù)方面處于領先地位。
展望
數(shù)據(jù)中心和網(wǎng)絡中對于可擴展、節(jié)能且成本效益高的光解決方案的需求,為SOI(TFLN、BTO和聚合物)、LNOI和InP平臺之間的激烈競爭奠定了基礎。每個平臺都有其獨特的優(yōu)勢和挑戰(zhàn),塑造著IM-DD或相干lite可插拔模塊的未來,并影響著更廣泛的光通信格局。