產(chǎn)業(yè)鏈人士：臺(tái)積電 3nm 制程工藝已開(kāi)始試驗(yàn)性生產(chǎn)

  ICC訊 12 月 2 日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，產(chǎn)業(yè)鏈方面的人士透露，臺(tái)積電的 3nm 制程工藝已開(kāi)始試驗(yàn)性生產(chǎn)，將在明年四季度大規(guī)模量產(chǎn)。

  臺(tái)積電 3nm 工藝開(kāi)始試驗(yàn)性生產(chǎn)，也符合他們這一先進(jìn)制程工藝的推進(jìn)預(yù)期。在近幾個(gè)季度的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上，臺(tái)積電 CEO 魏哲家均透露，他們的 3nm 制程工藝，將在 2021 年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)，2022 年下半年大規(guī)模量產(chǎn)。

  如果產(chǎn)業(yè)鏈人士透露的消息屬實(shí)，在明年 1 月份的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上，魏哲家可能就會(huì)透露 3nm 工藝風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)的消息。在今年 7 月份的二季度財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上，魏哲家就曾透露他們的 4nm 工藝已在三季度風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)。

  透露臺(tái)積電 3nm 工藝已開(kāi)始試驗(yàn)性生產(chǎn)的消息人士，還透露臺(tái)積電 3nm 工藝，是在晶圓十八廠試驗(yàn)性生產(chǎn)的。晶圓十八廠，也是臺(tái)積電官網(wǎng)公布的 3nm 工藝的主要生產(chǎn)工廠。

  臺(tái)積電在官網(wǎng)上表示，3nm 工藝是 5nm 之后一個(gè)完整的工藝節(jié)點(diǎn)跨越，3nm 工藝代工的芯片，晶體管的理論密度較 5nm 工藝將提升 70%，運(yùn)行速度將提升 15%，能效將提升 30%。